Tecnología de deposición de capas de material de unos pocos átomos de espesor sobre un sustrato basado en el uso secuencial de un proceso químico en fase gaseosa a presión atmosférica. Las reacciones de ALD usan dos químicos denominados precursores, mediante la exposición cíclica de un sustrato a diferentes precursores en cada ciclo se forma una única monocapa de átomos. Se utiliza en la fabricación de microprocesadores, películas ópticas y otras películas delgadas en electrónica avanzada y forma parte del conjunto de herramientas disponibles para la síntesis de nanomateriales.
